.svg?ts=1777979820){kind=small}
Täiskasvanutele
Kinkekomplektid.svg?ts=1777979697){kind=icon}
Eripakkumised
See rahustav näomask Aasia Centella ja teepuud sisaldav näomask on mõeldud ärritunud, kahjustatud ja tundlikule nahale. Aasia tedretsepiku ekstraktis sisalduvad aktiivsed ühendid (Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside ja Asiatic Acid) aitavad rahustada ärritunud nahka, tugevdada naha kaitsebarjääri, aitavad säilitada tervislikku pH-taset ning niisutavad ja värskendavad nahka.
Maski hüpoallergeenne, nahasõbralik bambuskiududest leht sobib ideaalselt, järgides näo kontuure.
Kandke mask puhtale, puhastatud ja toniseeritud nahale.
Jätke mõjuma 10-20 minutiks ja eemaldage.
Masseerige õrnalt maski ülejäänud vedelik näo- ja kaelanahale.
Water, Glycerin, Propanediol, Isopentyldiol, 1,2-Hexanediol, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Betaine, Arginine, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Allantoin, Ethylhexylglycerin, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Disodium EDTA, Dipotassium Glycyrrhizate, PVM/MA Copolymer, Melaleuca Alternifolia Leaf Oil, Chamaecyparis Obtusa Water, Melaleuca Alternifolia Extract, Butylene Glycol, Lavandula Angustifolia Flower Extract, Chamomilla Recutita Flower Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract, Mentha Piperita Leaf Extract, Monarda Didyma Leaf Extract, Freesia Refracta Extract, Centella Asiatica Extract, Madecassoside, Asiaticoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid. The ingredients are constantly updated. Before using a product, please read the list of ingredients on its packaging to ensure they are suitable for your personal use.
Cica Tea Tree Relaxing Mask Lõõgastav näomask 30g
See rahustav näomask Aasia Centella ja teepuud sisaldav näomask on mõeldud ärritunud, kahjustatud ja tundlikule nahale. Aasia tedretsepiku ekstraktis sisalduvad aktiivsed ühendid (Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside ja Asiatic Acid) aitavad rahustada ärritunud nahka, tugevdada naha kaitsebarjääri, aitavad säilitada tervislikku pH-taset ning niisutavad ja värskendavad nahka.
Maski hüpoallergeenne, nahasõbralik bambuskiududest leht sobib ideaalselt, järgides näo kontuure.
Kandke mask puhtale, puhastatud ja toniseeritud nahale.
Jätke mõjuma 10-20 minutiks ja eemaldage.
Masseerige õrnalt maski ülejäänud vedelik näo- ja kaelanahale.
Water, Glycerin, Propanediol, Isopentyldiol, 1,2-Hexanediol, Ammonium Acryloyldimethyltaurate/VP Copolymer, Betaine, Arginine, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Allantoin, Ethylhexylglycerin, Glyceryl Acrylate/Acrylic Acid Copolymer, Disodium EDTA, Dipotassium Glycyrrhizate, PVM/MA Copolymer, Melaleuca Alternifolia Leaf Oil, Chamaecyparis Obtusa Water, Melaleuca Alternifolia Extract, Butylene Glycol, Lavandula Angustifolia Flower Extract, Chamomilla Recutita Flower Extract, Rosmarinus Officinalis Leaf Extract, Mentha Piperita Leaf Extract, Monarda Didyma Leaf Extract, Freesia Refracta Extract, Centella Asiatica Extract, Madecassoside, Asiaticoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid. The ingredients are constantly updated. Before using a product, please read the list of ingredients on its packaging to ensure they are suitable for your personal use.
